採用雙堆棧技術,三星第七代 V NAND 閃存可達 176 層

雷鋒網 於 11/09/2020 發表 收藏文章
根據韓媒報道,三星在下一代閃存芯片的開發中取得重大進展,第七代V NAND閃存芯片將達到176層,並將於明年4月實現量產。這將是業界首個高於160層的高級別的NAND閃存芯片,三星將因此再次拉開與競爭對手的技術差距,維持自2002年以來一直在全球NAND閃存市場中排名第一的地位。


圖片源自flickr

相比於上一代閃存,第七代閃存在堆棧上取得明顯的進步。三星的第六代NAND閃存是128層,於今年6月開始量產,而第七代閃存將達到176層,儘管並沒有達到其最初計劃的192層,但依然有着明顯的進步。

據悉,第七代NAND閃存採用了“雙堆棧”技術,這是一種可以將通孔分成兩部分的,以便電流通過電路的方法。過去的單堆棧只能有一部分通孔,隨着堆棧層數的增多,工藝也隨之改進。

今年6月,三星宣佈將投資約9萬億韓元在位於韓國京畿道平澤工廠的2號線建設新的NAND閃存芯片生產設施,以擴大NAND閃存的生產線,並預計該設施將於2021年下半年投入運營。三星表示,將在新地點大規模生產尖端NAND存儲芯片,可能比原計劃更早開始量產第七代NAND閃存芯片。

與ARAM相比,NAND閃存是更具代表性的存儲芯片,且其存儲容量隨着堆棧數的鄭家而增加,因此堆棧的層數也被視為NAND閃存的核心競爭力。

三星一直通過減少集成電路的線寬來提高存儲芯片的性能和容量,引領高級NAND閃存的開發。

自2006年以來,三星一直研究3D NAND閃存。在存儲芯片的發展過程中,隨着存儲數據的單元變小,當線寬小於10nm時,便容易受到單元同單元之間的干擾,而3D NAND閃存能夠垂直放置在平面中排列的單元,以減少單元間的干擾。這是一種通過像公寓一樣垂直堆疊現有平面結構NAND來增加存儲容量的方法,在業界被稱之為3D NAND閃存,被三星獨立命名為V NAND。

2013年,三星成功量產了世界上第一個三維單元結構的V NAND閃存,從而改變了技術範式。當時許多人對V NAND閃存的商業化表示懷疑,不過現在所有的存儲芯片公司都在展開激烈的3D NAND閃存競爭。長江存儲的128層3D NAND閃存已於今年宣佈量產,英特爾也有今年發佈了144層3D NAND閃存,SK海力士目前處於176 4D NAND研究階段,此外還有西部數據(Western Digital)和鎧俠(Kioxia)等公司也在競爭之列。

在第一代(24層)V NAND閃存商業化之後,三星持續增加堆棧層,目前已經發展到第二代(32層)、第三代(48層)、第四代(64/72層)、第五代(92/96層)和第六代(128層)。通常更新一代,需要1到2年時間。

三星於去年8月完成128層V NAND閃存的開發,並實現量產。當時,三星宣佈已經向全球PC公司提供了基於第六代NAND閃存的企業PC固態驅動器(SSD)。

在NAND閃存市場上,三星一直業界領先。去年,三星以165.17億美元的銷售額佔據全球市場的35.9%,在NAND閃存市場中排名第一,持續自2002年以來的領先地位。

本文編譯自:http://www.thebell.co.kr/free/content/ArticleView.asp?key=202009071240410200102827&lcode=00
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資料來源:雷鋒網
作者/編輯:吳優

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